碳化硼涂層的制備方法
碳化硼噴嘴涂層存在著晶體和非晶體兩種結構,非晶體涂層的硬度低于晶體涂層硬度｡制備碳化硼涂層的方法很多,主要有CVD､真空鍍膜､可調射頻磁濺射､LCVD､微波法､離子濺射等｡實際應用中應根據(jù)具體要求采用不同的方法制備碳化硼涂層,爭取獲得最大的效益｡
采用離子濺射制備B4C涂層時,影響涂層性能最重要的因素是濺射距離｡濺射距離對涂層的成分和微觀結構影響很大,B2O3含量隨著濺射距離的增大而增大,而涂層致密率隨著濺射距離的增大而降低,彈性模量下降｡濺射距離增加導致致密率下降有兩個原因:一是當粒子處于熔融狀態(tài)時,伴隨B2O3形成的氣體被圍在基體中形成氣孔.
碳化硼噴嘴與酸、堿溶液不起反應，具有高化學位、中子吸收、耐磨 及半導體導電性。是對酸最穩(wěn)定的物質之一，在所有濃或稀的酸或 堿水溶液中都穩(wěn)定。用硫酸、氫氟酸的混合酸處理后，在空氣中800 ℃煅燒21h，可完全分解并形成三氧化碳和三氧化二硼。當有一些過渡金屬及其碳化物共存時，有特殊的穩(wěn)定性。但是,目前對碳化硼涂層的研究還不夠深入｡與對其它涂層的研究相比,國外只有少量論文對B4C作為硬涂層進行了探討,而國內相關的研究成果就更少｡本文在目前的研究基礎上,綜述了碳化硼涂層的有關研究成果,探討了碳化硼涂層研究的進展和未來發(fā)展方向｡
